東京応化工業は次世代の半導体製造技術であるEUV(極紫外線)リソグラフィ向け材料の取り組みを強化する。EUVレジストの受注は台湾などで順調に拡大しており、あわせて洗浄剤など高純度薬剤も台湾と北米で増産する。ArF(フッ化アルゴン)レジストも回路線幅3ナノメートルに対応する新型を開発中で、品揃えを拡充する。続きは本紙で

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