半導体洗浄剤さらに高度化、化学大手が成長領域狙い開発競争

　ＥＵＶ（極紫外線）リソグラフィー技術によってパターンの微細化が進み、従来の洗浄剤では対応できない領域が広がってきた。微小パーティクル（ごみ）を除去したり、選択的に特定物質だけを溶かしたりと洗浄剤の高度化・高機能化が求められている。微細パターンに悪影響を及ぼさないため、高温プロセスや強酸・強アルカリを使用しないなど制約も多く、各社の腕の見せどころとなっている。既存の洗浄剤メーカーに加え、新規プレーヤーも参入し、成長市場をめぐって開発競争が激化している。続きは本紙で

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