大日本印刷、ナノインプリント、先端ロジックに適用へ

　大日本印刷は、先端ロジック向けにナノインプリント（ＮＩＬ）の実用化を目指す。研究開発では５ナノメートルノードに相当するパターニングを達成。既存のＥＵＶ（極紫外線）リソグラフィの半分以下のコスト、１０分の１の消費電力で実現可能なことを試算ずみ。ロジックを先行評価が進む３ＤＮＡＮＤフラッシュメモリーと併せて有望用途と位置づけ、２０３０年までに関連事業を数十億円規模に育成する。半導体業界全体にグリーン製造の潮流があるなかで、省エネ化の観点でも重要技術と位置づけ事業化を進める。続きは本紙で

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