小林東大教授グループら、高活性の不均一系不斉ルイス酸触媒を開発

　＜均一系の長所兼備性能向上しやすく＞
　東京大学の小林修教授らの研究グループは高活性な不均一系不斉ルイス酸触媒を開発した。不均一系触媒の反応効率やリサイクル性と、均一系触媒の合成や性能アップのしやすさを兼備する。代表的な高活性の均一系不斉ルイス触媒であるトリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム錯体をアミン修飾シリカに担持、連続合成（連続フロー）が可能な触媒（不均一系）に仕上げた。イサチンとインドールを基質（原料）とするフリーデル・クラフツ反応を進行させたところ、目的生成物の収率は最大９８％、鏡異性体選択性（光学純度）は９９％以上、１９時間以上の連続合成に耐えるなど均一系の性能を継承。さらに触媒回転数は３００以上ともとの均一系触媒の活性を上回った。続きは本紙で

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