富士フイルム、静岡にＥＵＶレジスト評価体制

　富士フイルムが最先端半導体プロセス向けのＥＵＶ（極紫外線）フォトレジストに力を入れている。約４５億円を投資し、ＥＵＶプロセスに対応した最先端の評価装置を静岡工場に導入。１０月から稼働に入る。サンプル評価はポジ型、ネガ型の両レジストで進めており、順調にいけば年内にも両方の採用が決まる見通し。ポジ型で競合をキャッチアップし、得意のネガ型も業界初の量産につなげる。まずは万全の評価体制を構築し、採用・量産へ弾みをつけていく。続きは本紙で

ＦＦＥＭの静岡工場内にＥＵＶ対応の評価装置を導入

記事・取材テーマに対するご意見はこちら

PDF版のご案内