大日本印刷、フォトマスク、ＥＵＶ３ナノ以降見据え装置・材料サイドと連携拡大

　大日本印刷は、フォトマスク事業を強化する。５ナノメートル品の開発に成功したＥＵＶ（深紫外線）は、唯一の外販メーカーとして装置・材料サイドとの連携拡大を推進。３ナノメートル世代以降のデバイス構造変化を見据えた技術開発も広域連携で行う。急伸する３ＤＮＡＮＤ向けは高均一性、ＭＥＭＳ（微小電気機械システム）では高い形状精度が求められる光デバイスなども訴求する。注力領域として位置づけ、量産性に優れるマルチ電子ビームマスク描写設備を生かしプロセス開発支援などとあわせて進め、先端市場を捉える。続きは本紙で

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