イーケムソリューションズジャパンは、近赤外線を用いた世界初のリソグラフィー技術を開発した。近赤外線は透過性が高く、厚膜のフォトレジストでも下部まで光が届く特徴を持つ。同技術をブラックレジストに応用し、次世代ディスプレイ向けに展開する。すでに海外パネルメーカー数社と評価を進めており、来春の量産を目指す。リソグラフィーは紫外線を用いるのが常識であり、足元は波長の短いＥＵＶ（極紫外線）に注目が集まる。長波長の近赤外線を用いる逆転の発想は、装置メーカーを巻き込んで新たな市場を生む可能性がある。続きは本紙で
膜厚２０マイクロメートルのブラックレジスト。自作の露光装置のため山型の形状だが、専用の露光装置があれば垂直のパターンを形成できるという
