ウシオ電機、マスク検査用ＥＵＶ光源拡大、独自のプラズマ発光方式

　最先端の半導体で導入が拡大するＥＵＶ（極紫外線）露光。それを支えるのがウシオ電機のマスク検査用ＥＵＶ光源だ。独自のプラズマ光源を用い、輝度と空間安定性や発光制御性を両立。量産向けに加えて、オランダ応用科学研究機構（ＴＮＯ）での材料評価でも活用が進んでいる。ＥＵＶ露光の普及にともなうマスク枚数増やペリクル導入などの需要拡大要因に加え、検査用光源の高出力化も強く求められ、技術開発にもまい進する。マスク検査用で圧倒的な高シェアを持つ同社製品の詳細を取材した。続きは本紙で

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