三菱ケミカル、半導体材料を拡充、ＡｒＦ用ポリマーで国内に第２工場、半導体プリカーサーは台湾にラボ設置

　三菱ケミカルは、半導体のさらなる進化に貢献するため、既存事業拡大と新製品の戦列化を急ぐ。既存事業では、半導体装置のパーツ洗浄の拠点である台湾および欧州で増設を計画するほか、フォトレジスト用原料ポリマーは現在生産している鶴見工場（神奈川県横浜市）に続く国内第２工場を計画。新製品は、買収した米ゼレストが持つ半導体プリカーサー、ＥＵＶ（極紫外線）用原料ポリマー、パワー半導体向け放熱材料である窒化ホウ素（ＢＮ）シートなどが候補で、半導体プリカーサーは台湾にラボを設置し最大市場であるアジアの顧客開拓に乗りだした。ＢＮシートは福岡事業所（福岡県北九州市）に新プラントを建設中で、顧客認証を経て本格事業化を狙う。続きは本紙で

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