半導体復権へ捲土重来なるか（３）　ＥＵＶリソ、より進化　光源いよいよ１０００ワット視野に

　半導体前工程では最先端半導体の製造に必須のＥＵＶ（極紫外線）リソグラフィ技術が一段と進展する見通しになった。唯一のＥＵＶ露光機メーカーである蘭ＡＳＭＬは光源出力を現状の２倍近くまで高める。ギガフォトンも同様に出力を倍増して５００ワットを目指す。これによって生産性が大幅に向上してコストダウンが進むことになる。ただ、「将来は１０００ワット出力が求められる」（ギガフォトンの溝口計シニアフェロー）と、まだまだ発展途上にある。続きは本紙で

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