デジタル化社会の根底を支える半導体。その製造で重要な役割を担うのがパターン作成に用いられるフォトリソグラフィーだ。2020年には5ナノメートルノードが実用化され、最先端のEUV(極紫外線)プロセスの量産適用が始まった。日系化学企業の存在感が強いフォトレジストを軸に、リソグラフィーの現況と展望を追った。続きは本紙で

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