四国化成工業は、EUV(極紫外線)フォトレジスト関連材料の製品化を進める。レジストの機能性や反応性などの特性を向上する材料を開発。川上・川下での連携評価が進行しており、5ナノメートルノード以降の微細化に向けた採用を有望視する。今年4月に竣工した徳島工場北島事業所(徳島県北島町)の新パイロットプラント「TAP-4」におけるスケールアップが進行中で、早期の採用獲得に向けた顧客評価を加速させている。これを受けて本格量産への移行準備を進め、先端半導体プロセス材料の需要に応えていく。続きは本紙で

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